仅仅两天多的时间，科研所光刻机设计小组所设计出来的7纳米光刻机的良品率从🔆⚂开始程序模拟的不到40的良品率，极具提升到了90！
90的良品率在现实中还有点低，像是一些代工🜚🂱💡企业的良品率至少在95左右，甚至经过人员熟练，设备调整等方😟🂩面可以达到98。
但是90的良🇶🝃品🕾🏒🙝率，尤其是国内一直都👧😟处于国际落后技术的芯片制造，已经极具生产价值了！
之🎾所以速度如此🕾🏒🙝恐怖，还是因为在这里，他们发现任何问题，只要提出解决方案，光刻机生产线的调整不过就是输入几个数据，分分钟就可以完成。
但是现实中，你至少要重新生产相关的👧😟零部件😞🏦才行，这耽误的时间岂止是一点半点，而这里只需要更改数据，模拟的零配件瞬间就可以形成。
90的🍏🕭良品率，光刻机设计小组已经不准备继续进行设计了🞄👥，主要是他们没有使用过这个程序，不知道这程序到💠📍🙡底是否靠谱，但是这个程序传递回来的所有数据，在他们看来都是非常精准的。
而他们之所以停下来的原因就只有一个，他们要🜚🂱💡按🁐照这种最新改进，在现实中生产一台，然后在现实中实际测试！
相对😋⛟于光刻机设计小组的进度，芯片设计小组这边的进度自然是慢一点，毕竟芯片设计是从无到有的东西，而光刻机这东西更多的像是更新换代。