EUA光刻机，被誉为人类20世纪的发明奇迹之一，我们日常使用手机的CPU制造工艺都离不开光刻机。
光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。最核心的就是镜头，这个不是一般的镜头，可以达到高2米直径1米，甚至更大。目前业绩有5家公司分别是荷蓝的ASML、R本的Nikon、R本的国的ultratech以及我国的SMEE。
光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。
光刻机高端市场就ASML一家独大，尼康和佳能已退出高端光刻机市场。
目前最新的是ASML第二代EUV（极紫外光）光刻机每台售价超1亿美金，不过对大陆禁售。
尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司之一，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。
荷蓝ASML公司从2011年起已经垄断了高端芯片曝光机市场，也控制了中低端芯片曝光机市场80%的份额，同时拥有整个芯片曝光机市场105%的利润（因为尼康是亏损的），今年ASML的垄断格局更加明显了，佳能识时务，2008年开始逐步退出芯片曝光机业务，停止亏损，专注于打印机业务。
R本最大财团三菱集团不甘心失去这个领域的产能，竭尽全力支撑尼康的芯片曝光机，亏损也不愿意退出，不过结果是越陷越深。
尼康的芯片光刻机就在逐渐衰落，荷兰ASML一步步占据市场统治地位，尼康光刻机唯一剩下的优势就是同类机型价格不到ASML的一半。
但给予尼康致命一击的还是英特尔，在新制程中停止采购尼康的光刻机，我所了解的所有主流半导体产线中只有少数低阶老机龄的光刻机还是尼康或者佳能的。毕竟现在英特尔，三星和台积电都成为ASML的股东了。
根据《路投社》的报导，R本光学大厂尼康（Nikon）于24日表示，已对荷蓝半导体设备大厂艾司摩尔（ASMLHoldingNV）和合作伙伴卡尔蔡司（CarlZeissAG）提起法律诉讼，并表示ASML及CarlZeiss两家公司在未经Nikon的许可下将其微影（lithography）技术专利用于光刻机上，并运用在半导体制造业中。
根据国家海关数据统计，2012年Z国芯片进口总量为3120亿美元，占全球集成电路5000亿美元市场规模的近60%，进口额度超过石油，位列国内进口商品第一位。
面对终端需求的快速更替和技术的快速迭代，“芯片国产化”已经成为国家未来长期重要的发展战略。
一场以半导体产业为抓手的计算力战争，正在升级，世界上最大的合同芯片制造商台集电，已经宣布在M国建厂，而紧随其后的英特尔和三星，也正在考虑M国政府的邀请，芯片生产商的定向争夺，意味着竞争的本质发生了变化——“计算力”已经成为国家之间竞争的最重要指标。
特别到了2020年，华维遭遇“断供危机”，华维的危机，只是冰山一角。
被人掐脖子是非常难受的，身为Z国人的我不希望看到国家陷于困境之中，所以早点布局芯片行业，看能不能给予到帮助。
半导体、芯片、计算力，是同一条河流的上下游：半导体材料是一切的基础；集成电路是电子元件在半导体晶片上的集合；集成电路经过设计，制造，封装，就是芯片。它是一切计算设备的核心，从手机到超级计算机无处不在。它是繁荣之因，是纠纷之始，也是Z国制造必须补齐的一块短板
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